京东方Ａ新获得发明专利授权：“组合物、基板及反光层的制备方法”

专利摘要：本公开涉及照明和显示技术领域，尤其涉及一种组合物、基板及反光层的制备方法。用于解决相关技术中反光层固化收缩，对衬底基板的边缘产生应力，从而使衬底基板的边缘产生较大翘曲，不利于后续吸附和组装的问题。一种组合物，包括：基质材料和添加剂，基质材料包括溶剂，以及分散于溶剂中的反应物分子和具有反射功能的材料，反应物分子可在第一预设条件下发生交联反应，反应物分子包括单体分子和/或预聚物分子；添加剂包括填充材料，填充材料呈粉末状或微球状，可分散于基质材料中，并能够填充在任意相邻的反应物分子的交联点之间，以对部分相邻的反应物分子在第一预设条件下发生交联反应进行阻隔。

今年以来京东方Ａ新获得专利授权2737个，较去年同期增加了34.56%。结合公司2023年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了52.67亿元，同比减1.77%。

数据来源：企查查

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