东威科技新获得实用新型专利授权：“一种磁控溅射双面镀膜系统”

专利摘要：本实用新型涉及镀膜技术领域，提供了一种磁控溅射双面镀膜系统，包括：壳体，壳体具有腔体；驱动装置，包括第一驱动组件和第二驱动组件；镀膜辊结构，且可转动安装在第一驱动组件上；溅射磁极结构，安装在第二驱动组件上。该系统具有进行镀膜的工作状态和停止镀膜的停机状态，当系统位于工作状态时，第一驱动组件和二驱动组件分别驱动镀膜辊结构和溅射磁极结构进入到壳体的腔体内，以进行镀膜操作，当系统位于需要更换阴极靶材或者将膜材进行取装的停止镀膜的停机状态下，利用第一驱动组件驱动溅射磁极结构退出腔体，以对溅射磁极结构上的阴极靶材进行更换，也可以利用第二驱动组件驱动镀膜辊结构退出腔体，以对膜材进行取装。

今年以来东威科技新获得专利授权43个，较去年同期增加了53.57%。结合公司2023年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了3941.25万元，同比增30.86%。

数据来源：企查查

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